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全球生产光刻胶的企业有富士胶片、住友化学、信越化学、杜邦、东京应化等。中国生产光刻胶的企业有晶瑞股份、南大光电、雅克科技等，以下是2023年光刻胶行业竞争分析。

光刻胶又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。光刻胶行业竞争分析指出，全球光刻胶的生产销售起步于20世纪50年代，市场规模总体保持增长。

光刻胶行业高度集中

光刻胶行业竞争分析指出，光刻胶的性能指标包括分辨率、对比度、灵敏度、粘度、粘附性、抗蚀性和表面张力等，对生产技术要求较高，主要体现在配方技术、质量控制技术和原材料技术三个方面。除技术壁垒外，光刻胶行业还存在客户壁垒、原料壁垒。光刻胶行业进入门槛高，市场高度集中，CR4约70%。

日本企业占据龙头地位

从竞争情况看，全球光刻胶市场主要被日美企业垄断，其中日本企业基于政策扶持力度加大实现上下游协同发展，从而牢牢占据龙头地位。数据显示，2022年日本企业在光刻胶市场中占据的份额至少在60%以上。在半导体光刻胶的细分市场中，2022年日本东京应化在G/I线、KrF和EUV光刻胶市场的份额位列全球第一，分别是25.2%、31.4%和51.8%;而在ArF光刻胶产品市场中，日本JSR以24.9%的市场份额位列全球第一;此外，美国杜邦公司在G/i线光刻胶市场中也占据明显优势，市场份额位列全球前二。

国内光刻胶主要公司

晶瑞股份：公司围绕泛半导体材料和新能源材料两个方向，主导产品包括光刻胶及配套材料、超净高纯试剂、锂电池材料和基础化工材料等，广泛应用于半导体、新能源、基础化工等行业，主要应用到下游电子产品生产过程的清洗、光刻、显影、蚀刻、去膜、浆料制备等工艺环节。光刻胶行业竞争分析指出，其中光刻胶产品由公司的子公司苏州瑞红生产，苏州瑞红作为国内光刻胶领域的先驱，是1993年由苏电公司、日本瑞翁和日本丸红共同出资设立的合资企业，主要生产经营微电子配套用的光刻胶、高纯配套化学试剂及其他产品。

南大光电：公司建立的先进光刻胶研发中心具备了研制功能单体、功能树脂、光敏剂等光刻胶材料的能力。已经开发的多款先进光刻胶产品在客户端的首轮评估中获得好评。其中公司正在自主研发和产业化的193nm光刻胶项目，已获得国家02专项“193nm光刻胶及配套材料关键技术开发项目”和“ArF光刻胶开发和产业化项目”的正式立项。

目前，国内光刻胶厂商毛利率较高。南大光电、晶瑞电材和上海新阳光刻胶相关毛利率维持在40%以上，彤程新材光刻胶相关毛利率也在20%以上。从营业情况看，2022年南大光电半导体材料营业收入为9.84亿元，较2021年增加了3.89亿元，同比增涨65.46%;2022年南大光电半导体材料营业成本为5.32亿元，同比增涨了58.08%。

综合来看，光刻胶生产技术较为复杂，品种规格较多，在电子工业集成电路的制造中，对所使用光刻胶有严格的要求。